A/O厭氧-好氧+MF工藝法

A/O兼氧-好氧法工藝概述

A/O是Anoxic/Oxic的縮寫，它的*性是除了使有機污染物得到降解之外，還 具有一定的脫氮除磷功能，是將厭氧水解技術(shù)用為活性污泥的前處理，所以A/O法是改進的活性污泥法。

A/O工藝將前段缺氧段和后段好氧段串聯(lián)在一起，A段DO不大于0.2mg/L，O段 DO=2～4mg/L。在缺氧段異養(yǎng)菌將污水中的淀粉、纖維、碳水化合物等懸浮污染物和可溶性有機物水解為有機酸，使大分子有機物分解為小分子有機物，不溶性的有機物轉(zhuǎn)化成可溶性有機物，當這些經(jīng)缺氧水解的產(chǎn)物進入好氧池進行好氧處理時，可提高污水的可生化性及氧的效率；在缺氧段，異養(yǎng)菌將蛋白質(zhì)、脂肪等污染物進行氨化（有機鏈上的N或氨基酸中的氨基）游離出氨（NH3、NH4+），在充足供氧條件下，自養(yǎng)菌的硝化作用將NH3-N（NH4+）氧化為NO3-，通過回流控制返回至A池，在缺氧條件下，異氧菌的反硝化作用將NO3-還原為分子態(tài)氮（N2）完成C、N、O在生態(tài)中的循環(huán)，實現(xiàn)污水無害化處理。

A/O兼氧-好氧法工藝特點  ?

1、工藝成熟，建設(shè)和運行費用較低；設(shè)備可實現(xiàn)全自動化運行；

2、以原污水中的含碳有機物和內(nèi)源代謝產(chǎn)物為碳源，節(jié)省了投加外碳源的費用；

3、O段好氧池在后，容積負荷高。由于硝化階段采用了強化生化可進一步去除與降解有機物；

 4、A段缺氧池在先，缺氧反硝化過程對污染物具有較高的降解效率，由于反硝化消 耗了部分碳源有機物，可減輕好氧池負荷；

 5、A段攪拌，只起使污泥懸浮，而避免DO的增加。O段的前段采用強曝氣，后段減少氣量，使內(nèi)循環(huán)液的DO含量降低，以保證A段的缺氧狀態(tài)； 缺氧/好氧工藝的耐負荷沖擊能力強。當進水水質(zhì)波動較大或污染物濃度較高時， 本工藝均能維持正常運行。

A/O兼氧-好氧+MF法工藝流程

A/O厭氧-好氧法工藝應用

1、新農(nóng)村城鎮(zhèn)污水處理、中水回用處理設(shè)施；

2、輕工業(yè)廢水（啤酒、制藥、屠宰、養(yǎng)殖、淀粉加工、食品加工等）；

3、開發(fā)區(qū)、工業(yè)區(qū)的污水集中處；

4、別墅區(qū)、旅游度假區(qū)的點源污水處；

5、綜合性醫(yī)院及傳染病醫(yī)院污水處理。

A/O厭氧-好氧法工藝適用范圍   

適用于遠離城市排水管網(wǎng)、處理規(guī)模較大的單村與聯(lián)村污水集中處理。

工程總平面設(shè)計

1、廠區(qū)平面設(shè)計  依據(jù)“合理布局、流程有序、功能分區(qū)、布置緊湊，即有利于生產(chǎn)又方便管理”的廠區(qū)平面布置原則，充分考慮現(xiàn)有場地，結(jié)合廠區(qū)進出水方向，廠外道路的周圍建筑等因素，將通過精心設(shè)計、分析后確定廠區(qū)平面布置圖。  該方案的特點是處理單元布置緊湊，占地面積小，污水處理流程順暢，操作管理方便，對周邊建筑及環(huán)境影響小。

2、高程設(shè)計  污水處理站廠區(qū)地面高程按設(shè)定相對標高±0.0m，對污水處理站起端進水管底標高根據(jù)實地確定。

3、結(jié)構(gòu)設(shè)計

3.1地質(zhì)概述  根據(jù)一般地質(zhì)情況，對地基處理做綜合的評述。表層耕土及雜填土均不宜做結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)持力層。當原土地基承載力大于或等于120Kpa且軟弱土下臥層時，采用天然地基。當實際情況與上述情況不符時，要根據(jù)實際地質(zhì)情況，采取相應的措施來處理。當軟弱土較深或為下臥層時，要根據(jù)具體情況采用碎石振沖樁、灌柱樁或其他方法進行處理。當廠址內(nèi)有液化土層時，上部結(jié)構(gòu)及地基要做相應處理。  埋深大的構(gòu)筑物，要根據(jù)地下水的埋藏深度進行抗浮設(shè)計。如不能滿足抗浮穩(wěn)定性的要求，須采取抗浮措施，一般情況下采用配重抗浮。

3.2結(jié)構(gòu)形式及技術(shù)要求 

1、建筑物：一般情況下，采用磚混結(jié)構(gòu)?；A(chǔ)采用柱下獨立基礎(chǔ)和墻下條形基礎(chǔ)。有特殊要求的建筑可采用框架或排架結(jié)構(gòu)。 

2、構(gòu)筑物：本工程屬小型規(guī)模的污水處理站，其主要構(gòu)筑物均為盛水構(gòu)筑物，對結(jié)構(gòu)防水性能有較高的要求。故盛水構(gòu)筑物均采用鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)。材料要求：混凝土C25，墊層C10，水灰比不大于0.55。